化学气相沉积
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化学气相沉积
一、化学气相沉积(CVD)1.原理:化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition简称CVD)是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程。 2.过程:...
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化学气相沉积(中文版)2016
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金属有机化学气相沉积法.doc 淘豆网
6页发布时间:2019年6月5日
原理:金属有机化学气相沉积(MOCVD)是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种Ⅲ-...
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ppt课件 第六章化学气相沉积
103页发布时间:2015年4月18日
6.0CVD概述6.1CVD系统6.2CVD的动力学模型6.3多晶硅的化学气相淀积6.4二氧化硅的化学气相淀积6.5氮化硅的化学气相淀积6.6金属的化学气相淀积6.0CVD(ChemicalVap...
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化学气相沉积法PPT课件.ppt 淘豆网
53页发布时间:2017年11月27日
化学气相沉积法_PPT课件2、化学气相沉积法(CVD) br/ 3、溶胶凝胶法 br/ 定义:利用气相反应,在高温、等离子或激光辅助等条件下控制反应气压、气流速率、基片材料温度等...
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